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光学玻璃晶体的化学抛光
来源:www.wantegd.com发表时间:2020-06-19

光学玻璃晶体的化学抛光是利用氢氟酸破坏玻璃表面,使原有的表层硅氧膜破坏,生产新的表面硅氧膜,使得玻璃得到很高的透过率且表面很光洁。目前,平板玻璃的抛光大多用化学抛光和机械抛光相结合的方法,也即化学机械抛光。
采用化学侵蚀抛光玻璃时,除使用氢氟酸外,还要加入能使侵蚀生成物(硅氟化物)溶解的添加物。一般采用硫酸,硫酸具有酸性强,沸点高、不易挥发、室温下比较稳定等特点,故通常将硫酸加入氢氟酸中配成抛光液。另外,因氢氟酸易挥发。侵蚀性强,故需要在密闭条件下进行抛光,同时要对抛光过程中产生的废气、废水进行严格的处理。
影响化学抛光的因素如下:
1、玻璃的成分 一般情况下钠钙硅玻璃抛光比较困难,效果较差,含铅玻璃化学抛光效果较好;
2、抛光液的成分  特别是抛光液中氢氟酸和硫酸的比例构成,要根据玻璃的成分进行调整。一般的铅晶质玻璃配方中:7%~10.5%的氢氟酸和58%~65%的硫酸。对钠钙硅玻璃来说,水、氢氟酸、硫酸的体积比比例为1:(1.62~2):(2.76~3)。
3、抛光温度 温度过低则反应慢,温度过高反应剧烈,一般以40~50℃为宜。
4、处理时间 处理时间短,抛光作用不完全,处理时间长则玻璃表面会有盐类沉积物,因此具体的抛光时间,应依据抛光液的培比、处理温度等来决定。一般情况下采用短时间多次抛光的方法来处理,每次处理时间在6~15s左右,处理次数不超过10次,若处理次数过多易在表面形成波纹等缺陷,每次酸处理完后都应将玻璃表面用水冲洗以去掉沉淀的盐类。

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